📌 "100% 삼성 기술이었다"…中 창신메모리로 간 엔지니어들의 파국

삼성전자의 18나노 D램 국가핵심기술을 중국 CXMT에 유출한 혐의로 1심에서 징역 7년을 선고받은 전직 삼성전자 부장이 항소심에서 혐의를 인정했습니다. 재판 과정에서는 CXMT의 초기 D램 공정이 삼성전자 기술을 사실상 그대로 활용했다는 진술도 나왔습니다.

🔹 삼성 18나노 D램 공정 그대로 이전
삼성전자 출신 엔지니어가 퇴사 전 공정 정보를 손으로 베껴 중국으로 가져간 뒤, CXMT의 약 600개 공정으로 구성된 18나노 D램 PRP가 빠르게 완성됐다는 것이 검찰 수사와 재판에서 드러났습니다. 전직 부장은 항소심에서 해당 공정이 "100% 삼성전자 것"이었다고 진술했습니다.

🔹 기술 확보 뒤 1.5조원 설비투자
CXMT는 공정 정보를 확보한 뒤 2018년 약 1조5000억원 규모의 생산설비 투자에 들어갔습니다. 검찰은 유출된 삼성 기술에 약 1조6000억원의 연구개발비가 투입된 국가핵심기술이라고 판단해 관련자 10명을 기소했습니다.

🔹 고액 연봉으로 영입한 뒤 토사구팽
기사에 따르면 CXMT는 한국 엔지니어들에게 기존 연봉의 두 배 이상과 최대 30억원 수준의 보상을 제시했지만, 기술 이전과 공장 구축이 마무리된 뒤 상당수가 3~4년 만에 해고되거나 한직으로 밀려났습니다. 일부는 기술을 더 가져오지 않으면 한국 정부에 고발하겠다는 압박까지 받았다는 진술도 나왔습니다.

🔹 CXMT 성장의 출발점 다시 주목
이번 재판은 최근 빠르게 기술 격차를 좁히고 있는 CXMT가 초기 D램 양산체계를 구축하는 과정에서 한국 반도체 인력과 삼성전자 공정기술이 어떤 역할을 했는지를 보여주는 사례입니다. 핵심 피의자 일부는 여전히 혐의를 부인하고 있고, 공정 정보를 직접 반출한 것으로 지목된 인물은 중국에서 도피 중인 것으로 전해졌습니다.

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