에프에스티가 CNT 멤브레인 펠리클 상용화 속도를 높이며 관련 설비를 확충하는 것으로 파악된다. 카나투는 "이번 발주는 에프에스티의 CNT 펠리클 제조능력을 확대하기 위한 것"이라고 밝혔다. CNT 멤브레인을 적용한 완성 펠리클은 향후 고객사의 제품 승인과 파일럿 양산 등을 거쳐 상용 공급될 예정이다.
에프에스티는 CNT 기반 EUV 펠리클을 개발해 삼성전자 공급을 위한 평가를 진행하고 있다. 펠리클은 반도체 노광 공정에서 포토마스크에 미세 오염물질이 붙는 것을 막는 얇은 보호막이다. EUV용 포토마스크는 가격이 수억원에 달해 오염에 따른 비용 부담이 크다. 이물질이 붙으면 웨이퍼의 같은 위치에 동일한 결함이 반복적으로 발생할 수 있다. 펠리클을 적용하면 마스크 오염에 따른 결함과 교체 부담을 줄일 수 있다.
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